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ハイライト
ホルムアルデヒドフリー錫めっき化学薬品、高速堆積高輝度酸錫めっきプロセス、安定したプロセス電子めっき化学薬品
,Fast Deposition Bright Acid Tin Plating Process
,Stable Process Electronic Plating Chemical
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タイプ明るい酸の錫
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使用Tin plating
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アイテム化学助剤
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特徴速い沈殿、安定したプロセス
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起源の場所中国
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ブランド名FENGFAN
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モデル番号FF-7702
FF-7702 高輝度酸錫めっきプロセス - ホルムアルデヒドフリーの高速析出安定プロセス電子めっき化学薬品
FF-7702 光沢酸錫めっきプロセス
FF-7702 光沢錫めっきプロセスは、ホルムアルデヒドを含まない低発泡性の硫酸錫めっき溶液で、明るい銀白色の延性錫めっき層を生成します。このプロセスは、バレルめっきとラックめっきの両方の用途に適しています。
特長と用途
- 特殊な効果のある酸化防止剤が浴槽の耐用年数を延ばします
- ホルムアルデヒドフリーの低発泡錫めっきプロセス
- 電子用途向けの優れたはんだ付け性と均一なめっき
- 安定した塗装性能
- セラミックスや鉛ガラスなどの絶縁体を腐食しない
動作条件
| アイテム | 範囲 | 最適 |
|---|---|---|
| 硫酸第一スズ | 20～40g/L | 30g/L |
| 硫酸(H₂SO₄) | 150～170g/L | 160g/L |
| FF-7702A | 20～40ml/L | 30ml/L |
| FF-7702B | 0.5～3ml/L | 2ml/L |
| 温度 | 5～20℃ | 15～20℃ |
| カソード電流密度（ラックメッキ） | 1.0～3.0A/dm² | 2.0A/dm² |
| カソード電流密度（バレルめっき） | 0.3～1.0A/dm² | 0.5A/dm² |
| アノード電流密度 | 0.5～2.0A/dm² | 1.0A/dm² |
| 撹拌（陰極揺動） | 3～4m/分 | 3～4m/分 |
| フィルター | 継続的 | 継続的 |
| めっき速度 | - | 1 μm/分 (2 A/dm²) |
溶液の準備
- めっき槽、フィルターポンプ、陽極、陽極バッグを 10% (v/v) 硫酸で洗浄し、水でよく洗います。
- 必要量の50％の脱イオン水または蒸留水をタンクに加え、撹拌しながら必要量の硫酸を加えます（硫酸を加える際には適切な保護措置を講じてください）。
- 数本の錫棒を溶液に入れ、撹拌しながら必要量の硫酸第一スズを加え、完全に溶解するまで溶液を50℃以下に加熱します。
- 最終容量に達するまで脱イオン水または蒸留水を追加します。
- めっき液が室温まで冷めたら、FF-7702A、Bを撹拌しながら加えます。
- 最適な性能を得るには、2 ～ 3 Ah/L の小電流電解を実行してください。
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